三離子束切片測(cè)試
簡要描述:三離子束切片測(cè)試的切割原理是一種物理濺射過程,通過高能惰性氣體離子(通常為氬離子)轟擊樣品表面,逐層剝離材料原子,從而獲得超平整、無機(jī)械應(yīng)力的截面。
所屬分類:切片測(cè)試
更新時(shí)間:2026-02-04
廠商性質(zhì):其他
| 品牌 | 優(yōu)爾鴻信 |
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優(yōu)爾鴻信,多年從事PCB板及電子零組件檢測(cè)與失效分析服務(wù),實(shí)驗(yàn)室工程師熟悉PCB板SMT和DHP工藝流程,結(jié)合超聲波C-SAM、3DX-RAY、三離子束切片測(cè)試、FIB、掃描電鏡等設(shè)備,可開展PCB板、電子元器件、PCBA的一系列質(zhì)量檢測(cè)與失效分析。
三離子束切片測(cè)試的切割原理是一種物理濺射過程,通過高能惰性氣體離子(通常為氬離子)轟擊樣品表面,逐層剝離材料原子,從而獲得超平整、無機(jī)械應(yīng)力的截面。
適用場(chǎng)景:
多材料適用性
適用于硬質(zhì)、軟質(zhì)、多孔、熱敏感、脆性、非均質(zhì)復(fù)合等多種材料。
幾乎涵蓋所有常見檢測(cè)樣品材質(zhì),包括金屬、聚合物、纖維、生物組織等。
高質(zhì)量截面制備
使用三離子束技術(shù),切割截面平整、損傷小,適用于:
SEM分析(EDS、WDS、EBSD、Auger)
原子力顯微鏡(AFM)分析
TEM樣品前處理
主要用途
樣品前處理
為SEM、AFM、EBSD等微區(qū)分析設(shè)備提供高質(zhì)量、無損傷的平整截面。
適用于材料科學(xué)、電子元器件、生物組織、復(fù)合材料等多領(lǐng)域檢測(cè)。
高通量實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用
支持多樣品并行處理,適合批量樣品制備。
特殊樣品處理
熱敏感樣品(如橡膠、聚合物、含水樣品)的低溫制備。
脆性、多孔或非均質(zhì)材料的無損切割。
主要用途
材料科學(xué)與失效分析:金屬、陶瓷、復(fù)合材料截面的EBSD、EDS分析;焊點(diǎn)、涂層、界面的結(jié)構(gòu)觀察。
電子半導(dǎo)體行業(yè):IC芯片、金線接點(diǎn)、TSV通孔的高質(zhì)量截面制備,用于形貌測(cè)量和成分分析。
地質(zhì)與考古樣品:巖石、粘土、多孔礦物等脆性、非均質(zhì)樣品的無損切割。
通用前處理切片:為各類未知或復(fù)雜成分的客戶樣品,提供一種標(biāo)準(zhǔn)化、高質(zhì)量的通用截面制備方案。

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